Ваш город:
+7(4722) 40-00-02 info.amtorg@gmail.com

Установка вакуумного напыления ВН-2000(-08) – специализированный научно-технический комплекс для работы в вакуумном объеме. Характеризуется наличием большого диапазона регулировки рабочих параметров и универсальностью применения. Имеет низкое энергопотребление и компактные габариты. Является модернизированной версией установки ВН-2000.

Назначение

Комплекс типа ВН-2000(-08) предназначен для использования в качестве устройства формирования рабочей среды для ведения различных исследовательских или отдельных производственных работ в области напыления тонких слоев металлов, диэлектриков или полупроводников. Кроме того, установка может использоваться для проведения операций термического испарения или ионного травления посредством эл.лучевого испарителя, а также прибора нагрева и осаждения.

Комплекс ВН-2000(-08) – это исследовательская установка, состоящая из двух вертикальных стоек (аналитической и электрической), соединенных между собой посредством кабелей. В электрической стойке смонтированы комплект блоков питания и трансформаторов, распределительный блок, плату управления и отсеки для установки блоков питания дополнительного оборудования. Аналитическая стойка состоит из рабочей камеры (объема) с технической оснасткой, устройства формирования вакуума, турбомолекулярного насоса и системы жидкостного охлаждения.

Документальное название

Установка напыления ВН-2000(-08)

Называется как

Вакуумный пост, универсальный, автоматизированный

Параметры сети питания

380 В или 220 В/ 50 Гц

Мощность, потребляемая устройством, кВА

3,0

Диапазон регулировки напряжения на выходе высоковольтного блока питания, кВ

От 0,5 до 4,0

Напряжение на блоке питания магнетрона постоянного тока без подключения нагрузки, максимум, кВ

1,0

Диапазон регулировки тока пучка эл.-луч. испарителя, мА

От 0 до 200,0

Диапазон регулировки тока накала эл.-луч. испарителя, А

От 2,0 до 10,0

Диапазон регулировки тока источника резистивного испарителя, А:

 - испаритель 1

 - испаритель 2

 

От 5,0 до 200,0

От 3,0 до 50,0

Ток блока питания магнетрона постоянного тока, максимум, мА

300,0

Ток устройства ионного травления/очистки, максимум, мА

100,0

Температура нагрева в районе подложки устройства осаждения и нагрева, минимум, °С

300,0

Время нагрева подложки устройства осаждения и нагрева до температуры 300 °С, максимум, мин.

30,0

Предельное остаточное давление в рабочем объеме

 установки, максимум, Па

5*10-4

Время снижения рабочего объема от атмосферного давления до давления 2,0*10-3 Па, максимум, мин.

15,0

Допустимая температура окружающей рабочей среды, °С

От +10,0 до +35,0

Допустимое давление окружающей рабочей среды, кПа

От 84,0 до 106,7

Габаритные характеристики (размер) установки, мм:

 - аналитическая стойка

 - электрическая стойка

 

1600х540х470

1670х630х610

Установка занимает массу

350 кг