Ваш город:
+7(4722) 40-00-02 info.amtorg@gmail.com

Вакуумный универсальный пост ВН-2000 – модернизированная версия универсального научно-технического комплекса ВУП-5М, обеспечивающего работу в вакуумной камере (объеме). Отличается от аналогов низким энергопотреблением, широким спектром применения, большим диапазоном настройки рабочих параметров и компактными габаритами.

Назначение

Комплекс (вакуумный пост) ВН-2000 предлагает набор оборудования для формирования стабильной рабочей среды (вакуума) для ведения различных исследовательских или производственных работ в области формирования тонких пленок металлов, диэлектриков или полупроводников. Кроме того, функционал устройства позволяет проводить операции термического испарения или ионного травления поверхностей посредством дискретного испарителя, а также прибора нагрева и осаждения с целью дальнейшего изучения поверхностей, обработанных образцов различными методами, включая электронную микроскопию.

Научно-исследовательский вакуумный комплекс ВН-2000 – это специализированная установка, выполненная в форм-факторе модульного прибора, состоящего из трех компонентов: технический шкаф, пульт управления и рабочая камера. В техническом шкафу расположены комплект блоков питания, трансформаторы, распределительный блок, устройство формирования вакуума, турбомолекулярный насос и система охлаждени. Рабочая камера выполнена в форме герметичного цилиндрического прибора с необходимой технической оснасткой. Пульт управления включает средства настройки рабочих параметров комплекса, а также приборы визуального контроля его текущего состояния.

Директория УРП назвала товар

Вакуумный пост ВН-2000

Принадлежность к типу

Вакуумный пост, универсальный, автоматизированный

Параметры сети питания

Переменный ток, 380 В или 220 В/ 50 Гц

Мощность, потребляемая устройством, кВА

1,9

Мощность, потребляемая устройством при подключении дополнительного оборудования, максимум, кВА

5,0

Напряжение выходит из блока питания, максимум, кВ

7,0

Напряжение на блоке питания магнетрона без подключения нагрузки, максимум, кВ

0,9

Ток магнетрона, минимум, мА

300,0

Ток накала испарителя, максимум, А

200,0

Ток тлеющего разряда, мА

47,0

Диапазон регулировки тока в источнике с резистивным испарителем, А:

 - испаритель 1

 - испаритель 2

 

От 5,0 до 200,0

От 3,0 до 50,0

Магнетрон от блока питания подает ток не более, чем уровень, мА

300,0

Ток при ионном травлении и очистке, максимум, мА

100,0

Температура столика для проведения процедуры нагрева образцов, °С

1100,0

Температура столика для проведения процедуры охлаждения образцов, °С

-160,0

Температура нагрева в месте, где расположена подложка устройства осаждения и нагрева, минимум, °С

300,0

Время нагрева подложки устройства осаждения и нагревательных действий до температуры размером 300 °С, максимум, мин.

30,0

Время смены подложек, максимум, сек

7,0

Скорость вращения подложек, сек-1

0,5

Предельный размер остаточного давления в рабочем объеме

 установки, максимум, Па

1,3*10-4

Время снижения рабочего объема от атмосферного давления до размера давления 2,0*10-3 Па, максимум, мин.

15,0

Допустимая температура окружающей рабочей среды, °С

От +15,0 до +25,0

Диаметр мишени, мм

40,0

Диаметр подложки, максимум, мм

70,0

Габаритные характеристики (размер) установки, мм

1550х910х547

Весовые характеристики (масса) всей установки

300 килограмм